靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。氧化鈮靶材又是什么呢？
氧化鈮由于其獨特的物理和化學性質而被廣泛地應用于現代技術的許多領域。利用其較強的紫外吸收能力，可用作紫外敏感材料的保護膜；利用其薄膜折射率較高的特性，與SiO2等配合可制備具有不同折射率的薄膜。由于氧化鈮具有以上的特點而被用于光學薄膜干涉濾波器和氣體傳感器等；通過磁控濺射法制備等離子顯示器彩色濾光膜，用來提高等離子顯示器的亮度和可視角度，是等離子顯示器重要的鍍膜材料之一。制備氧化鈮薄膜的方法還有電子束蒸發、離子束反應濺射法、溶膠凝膠法和磁控濺射法等。不同的沉積方法和制備過程參數對制備薄膜的結構形貌和光學質量等有很大的影響。旋轉靶材相對于平面靶材具有很多的優點，I)利用率高(70%以上)，甚至可以達到90%;2)濺射速度快，為平面靶的2-3倍；3)有效地減少打弧和表面掉渣，工藝穩定性好
坐寸ο對于旋轉鍍膜靶材，要求旋轉靶`材為單根整體，或分段焊接在同一襯管上。以目前技術條件，旋轉靶材的制備方法主要包括熱等靜壓法、熱壓燒結法和澆鑄法，以上工藝各有優缺點，但是對不同尺寸的靈活控制難以滿足，尤其是熱壓燒結法只能生產長度為300mm以內的單支靶材，因此只能通過多節分段焊接固定在襯管上以達到一定的長度要求，這樣增加了生產的步驟,提高了靶材生產的成本。等離子噴涂旋轉靶材，是將金屬或非金屬噴涂粉在等離子焰流中加熱到熔化或半熔化狀態，并隨同等離子焰流，以高速噴射并沉積到預先經過處理過的工件表面上，隨著往復持續的噴涂，可以得到一定厚度的靶材。由于等離子噴涂溫度高，幾乎可以噴涂所有難熔金屬及陶瓷粉末；并且噴涂過程為一次成型，噴涂靶材的尺寸不受限制，步驟簡單，方便靈活。專利文獻CN101723681A介紹了利用等離子噴涂工藝制備大面積陶瓷板(Al2O3,Cr2O3, TiO2, Al2O3-TiO2, Al2O3-SiO2, ZrO2, MoSi2)的方法；專利文獻 CN101460652A 描述了利用等離子噴涂的方法制備了含有15摩爾％ -60摩爾％ Nb2O5的TiO2旋轉靶；專利文獻CN102021515A介紹了利用常壓等離子噴涂技術制備了不同配比的Al-Si靶材。但都未涉及到利用等離子噴涂的方法制備氧化鈮旋轉靶材。
以上新聞是氧化鈮靶材介紹及其制備方法，由河北東同光電科技有限公司編輯部編輯，詳詢請登錄官網http://www.ahb2b.com/